开鸿盛世防静电丁腈手套在半导体光刻中的作用？

半导体光刻工序对静电与洁净度要求极致严苛，苏州开鸿盛世防静电丁腈手套成为核心防护装备。其表面电阻稳定在10⁶-10⁹Ω，静电消散时间短，可快速导走操作人员产生的静电荷，避免静电击穿光刻胶与精密芯片，防止工序报废。

产品符合千级洁净标准，经多道清洗工艺，微粒与离子残留极低，杜绝微尘污染光刻镜头与晶圆表面，保障光刻精度。同时具备优异耐化学性，可抵御光刻过程中使用的溶剂与试剂侵蚀，不易破损渗漏。手套薄厚适中，贴合手部不影响精细操作，依托企业严格的品质管控，为光刻工序筑牢防护屏障，提升产品良率。